3D无掩膜光刻系统                                   得益于专利的A2PL®双光子对准光刻技术， Nanoscribe的3D光刻打印系统能帮助用户

3D生物打印系统                               制造优于100 nm特征尺寸和优于5 nm Ra表面粗糙度的产品，可实现亚微米级别的最小结构制

3D增材打印系统                               造，是市场上[敏感词]分辨率的增材制造打印系统。借助Nanoscribe双光子聚合技术独有的高设计

Quantum X shape                           自由度和高精度特点，用户可以制作具有亚微米级高精度机械元件和微机电系统，完成高精度的

Quantum X align                             3D微纳加工和无掩膜光刻，可用于折射和衍射微光学的微纳加工。Nanoscribe能以[敏感词]的速度
Quantum X bio                                制造光学级的光滑表面，进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。

Quantum X         
Photonic Professional GT2                       Nanoscribe的技术已广泛应用于以下领域：纳米压印模版光刻、 3D无掩膜光刻、3D维纳
IP光刻胶                                               加工、晶圆级批量生产、微机电系统(MEMS)、微型机器人、光子封装、微光学、微纳光学、折                                               
IPX光刻胶                                             射微光学元件、多级衍射光学元件、微型成像光学、波导和混合折射衍射光学器件、微透镜阵
GP-Silica                                              列、微流体/微流道系统、生命科学(微型生物医学装置、微针技术、细胞工程、生物制药)、
BIO INX 光刻胶                                    材料工程(创新超材料、仿生微结构)、表面工程等。
Advanced BioMatrix bioresins